Dynamesch Scanoptik: 1 kleng Fokuslëns, 1-2 Fokuslënsen, Galvo-Spigel. Déi ganz optesch Lëns bilt eng Funktioun vun der Straleverbreedung, dem Fokussierung an der Stralenoflenkung a Scannen.
Den expansiven Deel ass eng negativ Lëns, also eng kleng Fokuslëns, déi eng Stralexpansioun an e beweeglecht Zoom realiséiert, während d'Fokusslëns aus enger Grupp vu positiven Lënsen zesummegesat ass. De Galvo-Spigel ass e Spigel am Galvanometersystem.
(1) Optimiséierung vum Lënsendesign: Optimalt Verhältnis vum Duerchmiesser zu der Déckt
(2) Héich Schwellwäert fir d'Lëns: >30J/cm2 10ns
(3) Beschichtung mat extrem niddreger Absorptioun, Absorptiounsquote: <20 ppm
(4) Verhältnis vun der Galvanometerdicke zum Duerchmiesser: 1:35
(5) Genauegkeet vun der Lënsenuewerfläch: <= λ/5
Postobjektiv Lëns
Maximal Entréepupill (mm) | Optik 1 Duerchmiesser (mm) | Optik 2 Duerchmiesser (mm) | Optik 3 Duerchmiesser (mm) | Scanfeld (mm) | Kloer Blend vum Scanner (mm) | Wellelängt |
8 | 15 | 55 | 55 | 600x600 800x800 | 30 | 10,6µm |
12 | 22 | 55 | 55 | 1600x1600 | 30 | |
8 | 16 | 55 | 55 | 600x600 800x800 | 30 | 1030-1090nm |
8 | 15 | 35 | 35 | 300x300 | 10 | 532nm |
8 | 15 | 35 | 35 | 300x300 | 10 | 355nm |
Reflekterspigel
Beschreiwung vum Deel | Duerchmiesser (mm) | Déckt (mm) | Material | Beschichtung |
Silikonreflektor | 25.4 | 3 | Silizium | HR@10.6um,AOI: 45° |
Silikonreflektor | 30 | 4 | Silizium | HR@10.6um,AOI: 45° |
Faserreflektor | 25.4 | 6,35 | Schmelzte Kieselerde | Häerzfrequenz @ 1030-1090nm, AOI: 45° |
Faserreflektor | 30 | 5 | Schmelzte Kieselerde | Häerzfrequenz @ 1030-1090nm, AOI: 45° |
Faserreflektor | 50 | 10 | Schmelzte Kieselerde | Häerzfrequenz @ 1030-1090nm, AOI: 45° |
532 Reflektor | 25.4 | 6 | Schmelzte Kieselerde | Häerzfrequenz @ 515-540nm/532nm, AOI: 45° |
532 Reflektor | 25.4 | 6,35 | Schmelzte Kieselerde | Häerzfrequenz @ 515-540nm/532nm, AOI: 45° |
532 Reflektor | 30 | 5 | Schmelzte Kieselerde | Häerzfrequenz @ 515-540nm/532nm, AOI: 45° |
532 Reflektor | 50 | 10 | Schmelzte Kieselerde | Häerzfrequenz @ 515-540nm/532nm, AOI: 45° |
355 Reflektor | 25.4 | 6 | Schmelzte Kieselerde | HR@355nm & 433nm, AOI: 45° |
355 Reflektor | 25.4 | 6,35 | Schmelzte Kieselerde | HR@355nm & 433nm, AOI: 45° |
355 Reflektor | 25.4 | 10 | Schmelzte Kieselerde | HR@355nm & 433nm, AOI: 45° |
355 Reflektor | 30 | 5 | Schmelzte Kieselerde | HR@355nm & 433nm, AOI: 45° |
Galvo Spigel
Beschreiwung vum Deel | Maximal Entréepupill (mm) | Material | Beschichtung | Wellelängt |
55mmL*35mmB*3.5mmT-X 62 mm L * 43 mm B * 3,5 mm D-Y | 30 | Silizium | MMR@10.6um | 10,6µm |
55mmL*35mmB*3.5mmT-X 62 mm L * 43 mm B * 3,5 mm D-Y | 30 | Schmelzte Kieselerde | Häerzfrequenz @ 1030-1090nm | 1030-1090nm |
55mmL*35mmB*3.5mmT-X 62 mm L * 43 mm B * 3,5 mm D-Y | 30 | Schmelzte Kieselerde | Häerzfrequenz @ 532nm | 532nm |
55mmL*35mmB*3.5mmT-X 62 mm L * 43 mm B * 3,5 mm D-Y | 30 | Schmelzte Kieselerde | Häerzfrequenz @ 355nm | 355nm |
Schutzlëns
Duerchmiesser (mm) | Déckt (mm) | Material | Beschichtung |
75 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
80 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
90 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
90x60 | 5 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
90x64 | 2,5 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
90x70 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |